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刻蝕工藝書籍(蝕刻工藝品)

來源:m.cisanotes.com   時間:2022-10-20 04:34   點擊:394   編輯:niming   手機版

刻蝕工藝書籍

至少2-3年才有資本說自己干過。一個有經(jīng)驗的工藝工程師大約需要5-10年的時間。

刻蝕工藝工程師

崗位職責(zé):

1.負責(zé)刻蝕新工藝的開發(fā)和量產(chǎn)導(dǎo)入;

2.負責(zé)刻蝕異常的處理,不良分析和解決,保障蒸發(fā)刻蝕工程生產(chǎn)的平穩(wěn)運行;

3.分析生產(chǎn)數(shù)據(jù),監(jiān)控工藝的穩(wěn)定性和產(chǎn)品良率,提高產(chǎn)品品質(zhì);

4.監(jiān)控生產(chǎn)物料的使用,降低產(chǎn)品單耗;

5.配合新材料、新工藝、新設(shè)備的開發(fā);

6.負責(zé)作業(yè)指導(dǎo)書的編制、作業(yè)員操作培訓(xùn)和上崗考核.

任職要求:

1、熟悉干法刻蝕工藝,熟悉Sio2刻蝕,InP,GaAs等化合物半導(dǎo)體材料刻蝕工藝,了解蝕刻工藝管控重點。

2、3年以上LED或者半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)工作經(jīng)驗;

3、必須掌握SPC/8D等質(zhì)量管理工具。

蝕刻工藝品

金屬蝕刻就是先在基板上用絲印或網(wǎng)印的方式把基板上需要保護的部位遮住,然后用化學(xué)或電化學(xué)方式侵蝕掉不需要的部位,最后退去保護膜,得到制品的一種加工方式。是生產(chǎn)標牌、電路板、金屬工藝品、金屬版畫等過程中的關(guān)鍵步驟。最初的技術(shù)工業(yè)生產(chǎn)應(yīng)用是在印刷絲路版,因絲路板的絲線細而密,機械加工很難完成。不同的金屬材料,性質(zhì)各不相同,蝕刻圖型的精度不同,蝕刻深度不同,所采用的蝕刻方法、工藝以及所用蝕刻液的配方大不一樣,所采用的感光抗蝕材料也各不相同。

1、 化學(xué)蝕刻法—用強酸或強堿溶液直接對工件未被保護部位進行化學(xué)腐蝕,這也是目前使用最多的一種方法,優(yōu)點是蝕刻深度可深可淺,蝕刻速度很快,缺點是腐蝕液對環(huán)境有很大的污染,特別是蝕刻液不易回收。并且在生產(chǎn)過程中對操作工人的身體健康有害。

2、 電化學(xué)蝕刻—這是一種把工件做陽極,使用電解質(zhì)通電,陽極溶解,從而達到蝕刻目的的方法,其優(yōu)點在于環(huán)保方面,對環(huán)境污染很小,對操作工人的身體健康無害,缺點是蝕刻深度較小,大面積蝕刻時,電流分布不均勻,深度不易控制。

3、 激光蝕刻法—優(yōu)點是線性邊沿整齊無側(cè)蝕現(xiàn)象,但成本很高,約為化學(xué)蝕刻法的一倍。印刷電路板行業(yè)印刷錫膏時,所用的不銹鋼絲網(wǎng)大多是用激光蝕刻法制作的。工藝流程 基板的清洗與表面處理 涂布 熱風(fēng)預(yù)烘干 曝光 顯影 補光固化 干燥 蝕刻 脫墨 后制作 對于較小的平面工件,可直接采用絲印的方式完成涂布的工序,但對于大面積,絲印無法進行的產(chǎn)品只能采用直接在工件表面涂布顯影。

蝕刻與刻蝕

ASML EUV光刻機1.2億美金,蝕刻機應(yīng)該也是在1千萬的級別,難度差距不是一點點。

另外光刻機里面的光源系統(tǒng),純硬件水平要達到幾個納米,需要用到超高功率的激光才能實現(xiàn),功耗水平很高,同時光源的均勻化需要很高的反射材料,對材料以及儀器的環(huán)境要求更高。

EUV光刻機的話,目前市場可以做到的也就是ASML,Nikon,Canon,其中ASML更是占到了8成的市場份額。

國內(nèi)目前仍然是求著人家買光刻機的地位,7nm的光刻做出來的芯片產(chǎn)品,從ASML的布局看,已經(jīng)是在為2030的下游產(chǎn)品布局的了。

蝕刻新工藝

鋁板蝕刻工藝

鋁板是兩性材料,既怕酸,又怕堿,所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕,有的用酸性材料腐蝕,一般情況下,以酸性材料腐蝕的為多,堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨,去掉油膩、劃痕,磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣,油墨型號為80-39、80-59、80-49等。這種耐腐蝕油墨細膩,印出的紋樣質(zhì)量高。印完紋樣后放進電爐內(nèi)烘干,然后用即時貼封住后面,用膠帶封邊,進入腐蝕工藝。

鋁板的腐蝕液配方如下:

三氯化鐵

50%

硫酸銅

50%

適量

波美度

15~20°之間

鋁板腐蝕時應(yīng)平放,在腐蝕的過程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣,應(yīng)隨時用毛刷去掉,鋁面上冒出大量泡泡,滓渣隨泡泡浮起。鋁板的腐蝕時間大約在15~20min左右就可完成。一般情況下鋁板厚度不應(yīng)低于1mm,否則一不小心會腐蝕透,影響效果。鋁板的防護材料用香蕉水或丙酮去掉。腐蝕后的鋁板拋光和銅板一樣,拋光時用香蕉水搓凈余蠟,用另一塊棉花擦磨出亮光,然后噴護光劑防護,其它同銅一樣加工。

半導(dǎo)體刻蝕工藝書籍

這兩個詞是半導(dǎo)體工藝中的重要步驟,需要配合剖面圖講解,最好自己找本半導(dǎo)體工藝的書看。

“光刻”是指在涂滿光刻膠的晶圓(或者叫硅片)上蓋上事先做好的光刻板,然后用紫外線隔著光刻板對晶圓進行一定時間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質(zhì),易于腐蝕。

“刻蝕”是光刻后,用腐蝕液將變質(zhì)的那部分光刻膠腐蝕掉(正膠),晶圓表面就顯出半導(dǎo)體器件及其連接的圖形。然后用另一種腐蝕液對晶圓腐蝕,形成半導(dǎo)體器件及其電路。

建有流水線的商家有,海力士,華潤等等。有興趣可以網(wǎng)上的半導(dǎo)體技術(shù)交流論壇看看。

刻蝕工藝書籍推薦

《金屬蝕刻技術(shù)》是2008年國防工業(yè)出版社出版的圖書,作者是楊丁。

本書詳細地介紹了常用金屬化學(xué)蝕刻的原理及加工方法。同時也對與金屬蝕刻有關(guān)的照相底版制作、防蝕技術(shù)及常用加工實例等進行了詳細介紹和討論。

本書文字簡練,深入淺出,通俗易懂,實用性強。適用于從事鋁合金、不銹鋼、鈦合金、線路板化學(xué)蝕刻加工,具有中等文化程度的技術(shù)人員及技術(shù)工人閱讀使用,同樣也適用

蝕刻加工工藝

答:

蝕刻加工最好的技術(shù)是濕式蝕刻技術(shù)。

蝕刻技術(shù)屬于感光化學(xué)技術(shù)領(lǐng)域, 是用光刻腐蝕加工薄形精密金屬制品的一種方法。

其基本原理是利用化學(xué)感光材料的光敏特性, 在基體金屬基片兩面均勻涂敷感光材料采用光刻方法, 將膠膜板上柵網(wǎng)產(chǎn)顯形狀精確地復(fù)制到金屬基片兩面的感光層掩膜上通過顯影去除未感光部分的掩膜, 將裸露的金屬部分在后續(xù)的加工中與腐蝕液直接噴壓接觸而被蝕除, 最終獲取所需的幾何形狀及高精度尺寸的產(chǎn)品技術(shù)蝕刻技術(shù)

刻蝕工藝有哪些

在半導(dǎo)體制造中有兩種基本的刻蝕工藝:干法刻蝕和濕法腐蝕。干法刻蝕是把硅片表面曝露于氣態(tài)中產(chǎn)生的等離子體,等離子體通過光刻膠中開出的窗口,與硅片發(fā)生物理或化學(xué)反應(yīng)(或這兩種反應(yīng)),從而去掉曝露的表面材料。干法刻蝕是亞微米尺寸下刻蝕器件的最重要方法。而在濕法腐蝕中,液體化學(xué)試劑(如酸、堿和溶劑等)以化學(xué)方式去除硅片表面的材料。濕法腐蝕一般只是用在尺寸較大的情況下(大于3微米)。濕法腐蝕仍然用來腐蝕硅片上某些層或用來去除干法刻蝕后的殘留物。

干法刻蝕也可以根據(jù)被刻蝕的材料類型來分類。按材料來分,刻蝕主要分成三種:金屬刻蝕、介質(zhì)刻蝕、和硅刻蝕。介質(zhì)刻蝕是用于介質(zhì)材料的刻蝕,如二氧化硅。接觸孔和通孔結(jié)構(gòu)的制作需要刻蝕介質(zhì),從而在ILD中刻蝕出窗口,而具有高深寬比(窗口的深與寬的比值)的窗口刻蝕具有一定的挑戰(zhàn)性。硅刻蝕(包括多晶硅)應(yīng)用于需要去除硅的場合,如刻蝕多晶硅晶體管柵和硅槽電容。金屬刻蝕主要是在金屬層上去掉鋁合金復(fù)合層,制作出互連線。

刻蝕也可以分成有圖形刻蝕和無圖形刻蝕。有圖形刻蝕采用掩蔽層(有圖形的光刻膠)來定義要刻蝕掉的表面材料區(qū)域,只有硅片上被選擇的這一部分在刻蝕過程中刻掉。有圖形刻蝕可用來在硅片上制作多種不同的特征圖形,包括柵、金屬互連線、通孔、接觸孔和溝槽。無圖形刻蝕、反刻或剝離是在整個硅片沒有掩模的情況下進行的,這種刻蝕工藝用于剝離掩模層(如STI氮化硅剝離和用于制備晶體管注入側(cè)墻的硅化物工藝后鈦的剝離)。

蝕刻工藝圖片

  你好,關(guān)于電解蝕刻的原理我就不再贅述。直接回答你關(guān)心的話題吧。   一,優(yōu)點:   1,投資少,電解蝕刻機市場價格不高,甚至可以自己改造或者組裝。   2,操作簡單,蝕刻液成本低,溶液配制容易,對不同金屬適應(yīng)性也較強。   3,小批量生產(chǎn)速度快,深度也比較容易控制,常常用來蝕刻不銹鋼標牌。   4,對于化學(xué)蝕刻機無法完成的超大標牌,可以考慮使用。   5,污染性不大,比較環(huán)保。   二,缺點:   1,不適合批量化的生產(chǎn),生產(chǎn)效率較低。   2,對標牌使用的抗蝕刻膜層有著較高的要求,絕緣性要好,才能抵抗電流擊穿,普通的網(wǎng)印 油墨是不可以使用的。   3,對于大面積的蝕刻很難保證深度均勻性。   4,對于很精細的線條,容易出現(xiàn)過蝕刻現(xiàn)象,我們常用的刷刻方式很難控制刻刷在蝕刻部位的時間,時間短則深度達不到,時間長則容易把細線條損壞,這是一個很突出的問題。   5,容易出現(xiàn)接觸不良,斷路打火,標牌局部燒焦等問題。   6,對于有些金屬蝕刻速度很慢,效率低。比如,鋁材等。   以上回答難免掛一漏百,只是我多年來的心得體會,希望對你有所幫助。萊垍頭條

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